მაღალი სიმკვრივის კალციუმის სილიკატური დაფა გასაყიდად

შესავალი

ზოგადად, არსებობს მაღალი სიმკვრივის კალციუმის სილიკატური დაფები: მინის ბოჭკოვანი კალციუმის სილიკატური დაფა (საერთო ტიპი) და ნახშირბადის ბოჭკოვანი კალციუმის სილიკატური დაფა (მაღალი ტემპერატურის ტიპი), რომელთაგან ორივე მათგანს აქვს მაღალი კომპრესიული ძალა და სიმკვრივე 800-ზე ზემოთ, მაგრამ სპეციფიკური სიმკვრივე შეიძლება მორგებული იყოს მომხმარებლის მოთხოვნების შესაბამისად. N-14 არის მინის ბოჭკოვანი მაღალი სიმკვრივის კალციუმის სილიკატური დაფა, ხოლო N-17 არის ნახშირბადის ბოჭკოვანი მაღალი სიმკვრივის კალციუმის სილიკატური დაფა. მინის ბოჭკოვანი მაღალი სიმკვრივის კალციუმის სილიკატური დაფა არის ჩვეულებრივი ტიპი მაღალი სიმკვრივის კალციუმის სილიკატური დაფა, ხოლო ნახშირბადის ბოჭკოვანი არის მაღალი ტემპერატურის ტიპი, რომელსაც აქვს უკეთესი თერმული შოკის წინააღმდეგობა.

კალციუმის სილიკატური დაფა, რომელსაც აქვს 300 სიმკვრივე, გამოიყენება ელექტროლიტური ალუმინის ინდუსტრიაში;

ჩვეულებრივი კალციუმის სილიკატური დაფა 220 სიმკვრივით, რომელიც გამოიყენება ცემენტის ქარხნებში;

დაბალი ტემპერატურის მიკროპოროზული კალციუმის სილიკატური დაფა და კალციუმის სილიკატური ჭურვი, რომლის სიმკვრივე 220 და 650 გრადუსია, გამოიყენება სითბოს მილების, ზეთის მილების და ორთქლის მილებისთვის.

ტექნიკური პარამეტრები

ტიპი	მინის ბოჭკოვანი რკინა	ნახშირბადის ბოჭკოვანი რკინა
ნაყარი სიმკვრივე ტორლერანსი	850-950 კგ / mA	850-950 კგ / მ °
Temp.limit	1000-1100℃	1000-1100℃
უწყვეტი მომსახურების ტემპი	850 ℃	850 ℃
მოქნილი ძალა	6.5	8.0
Comprssive ძალა (შესვენება) 5% დეფორმაცია	15.5 MPa 12pmpa	17 მპა 13 მპა
თერმული გაფართოების კოეფიციენტი	7*10-6	7*10-6
თერმული კონდუქტომეტრული (V / M.K)	100℃ 200℃ 300℃ 400℃ 0.113 0.120 0.121 0.125	100℃200℃ 300℃ 400℃ 0.103 0.114 01.24 0.133
თერმული შემცირება 24 საათის შემდეგ ხაზოვანი % სისქის შემდეგ	650 ℃ 700 ℃ 750 ℃ 850 ℃ 1000 ℃ 0.15 0.25 0.28 0.35 0.49 0.86 1.00 1.10 1.30 3.50	650℃ 700℃ 750℃ 850℃ 1000℃ 0.10 0.18 0.20 0.21 0.36 0.60 0.80 0.90 1.10 2.40

მაღალი სიმკვრივის კალციუმის სილიკატური დაფის გამოყენება

კალციუმის მაღალი სიმკვრივის სილიკატური დაფები გამოიყენება ტურბინების, ქვაბებისა და ელექტროსადგურების გამონაბოლქვის მილებში იზოლაციისთვის.

მაღალი სიმკვრივის კალციუმის სილიკატური დაფა ამაყობს სითბოს შესანიშნავი წინააღმდეგობითა და გამძლეობით, რაც მას იდეალურ არჩევანს გახდის მილსადენებისა და რეაქტორების საიზოლაციო პეტროქიმიურ მცენარეებში.

მაღალი სიმკვრივის კალციუმის სილიკატური დაფა შესაფერისია, როგორც გარე საიზოლაციო ფენა მაღალი ტემპერატურის აღჭურვილობისთვის, როგორიცაა ღუმელები და ქიმიური რეაქციის გემები. ის ეფექტურად ბლოკავს სითბოს გამტარობას და უზრუნველყოფს Equi- ს უსაფრთხო მუშაობას

მაღალი სიმკვრივის კალციუმის სილიკატური დაფები გამოიყენება საიმედო სარეზერვო საიზოლაციო ფენებად კერამიკაში, მინისა და ცემენტის ღუმელებში.

მაღალი სიმკვრივის კალციუმის სილიკატური დაფები გამოიყენება როგორც ღუმელების განმეორებით და ღუმელების შიდა ხრახნიანი ფოლადის და ლითონის გადამამუშავებელი ინდუსტრიის შიდა.